中國投入數十年研發，EUV技術突破為何仍待時日？

Question

Accepted Answer

中國EUV技術瓶頸源於關鍵零組件的依賴與技術積累的「時間差」

中國在極紫外光(EUV)微影技術上的突破之所以仍需時日，關鍵在於其對蔡司集團等上游關鍵零組件供應商的高度依賴，以及先進製程技術需要數十年才能累積的「時間差」，而非單純的研發投入問題。即便投入數十年，若無法掌握核心零組件的自主生產能力，並經歷漫長的良率爬升過程，便難以縮小與領導者的差距。
光學元件的技術壁壘難以跨越

EUV微影機的核心在於其極高精度、複雜的光學系統，而德國蔡司集團正是此領域的獨家供應商，全球約80%的晶片生產都仰賴其零組件。要自行開發出EUV微影機，意味著中國不僅需要掌握光學設計與製造能力，更要能生產出符合極端精密要求的鏡片、反射鏡等關鍵零組件。蔡司集團半導體事業負責人Frank Rohmund的評估，中國在EUV技術上落後約15年，這反映了蔡司在光學元件領域累積的深厚技術實力與生產經驗，是後進者難以在短時間內追趕的。
產業生態與良率積累的「時間差」

艾司摩爾(ASML)作為全球唯一能製造EUV微影機的企業，其技術領先地位並非僅止於最終組裝，更包含與蔡司等供應商長達數十年的合作與技術整合。這使得EUV技術的發展，涉及龐大且複雜的產業生態系。瑞銀分析師預估中國至少還需10年才能開發出國產EUV技術，這數字不僅反映了技術的差距，更包含了從實驗室走向量產、從零良率到穩定商業化生產所需的龐大「時間成本」。即使中國在部分浸潤式深紫外光(DUV)設備上取得進展，但EUV技術的複雜度與精度要求遠超DUV，其技術門檻與所需累積的經驗更是不可同日而語。

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