中國浸潤式 DUV 曝光機進展，對 ASML 構成實質威脅嗎？

Question

## 中國浸潤式 DUV 曝光機的進展，對 ASML 的市場領導地位構成的實質威脅尚不明朗。

Accepted Answer

儘管中國在浸潤式深紫外光（DUV）曝光機的自主研發上傳出初步進展，但目前此類技術仍處於早期測試階段，距離 ASML 公司成熟且廣泛應用的機台仍存在顯著的技術差距。摩根大通分析指出，原型機與實際量產能力之間存在巨大鴻溝，這意味著其商業化之路充滿高度不確定性，短期內難以撼動 ASML 在此領域的絕對主導地位。

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