「舉國之力」應如何從口號轉變為實際的國家級整合機制？

Question

Accepted Answer

「舉國之力」應從資源分散轉向系統性整合，以打造中國晶片產業的「頭部企業」

中國半導體產業領軍人物的聯名文章，直指「舉國之力」的關鍵在於建立國家級的整合機制，而非過去各自為戰的模式。這項轉變的核心，在於將分散的單項技術突破，如 EUV 雷射光源、晶圓工作台及光學系統等，匯聚成能與國際巨頭 ASML 抗衡的完整微影系統，並透過「團隊作戰」鍛造具備全球競爭力的「頭部企業」。
整合機制是打造「中國版 ASML」的根本途徑

ASML 之所以能成為全球光刻機龍頭，並非僅憑單一技術的卓越，而是其強大的系統整合能力，將來自 5000 家供應商的 10 萬個零組件，組合成極具技術門檻的 EUV 設備。文章指出，中國雖在 EUV 雷射光源、晶圓工作台及光學系統等關鍵單項技術上已有突破，但若無法克服「名利」藩籬，有效調度龐大資金與人力資源，將這些分散的成果進行系統性整合，則難以形成具備市場主導權的產業力量。此種整合思維，正是從「舉國之力」的口號轉化為實際行動的關鍵。
國家級整合平台將是未來五年戰略的核心

為實現「十五五」期間力爭產業躋身全球前三、晶片自給率達 80%、並初步建成全國產化 7nm 生產線的宏大目標，中國必須建立一個國家級的公共研發平台。此平台不僅能匯集分散的技術與人才，更能統一調度國家大基金三期等龐大資金，避免與英特爾、三星、台積電等國際大廠在年度資本支出上的巨大落差。透過此平台，中國才能真正實現「臥薪嘗膽」，將過去數年來在基礎研究與單項技術上的投入，轉化為具備國際競爭力的完整微影系統，並為 28nm 全產業鏈的夯實、14nm 的穩定生產以及 7nm 的試運行奠定堅實基礎。

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