《MATCH法案》中的「後備機制」實際上是如何將美國的出口管制影響力擴展至全球的？

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《MATCH 法案》的後備機制與全球管制擴張

美國《MATCH 法案》全名為「硬體技術管制多邊接軌法」，其核心目的在於強化對半導體製造設備的出口管制，特別是針對先進晶片生產的關鍵技術。此法案不僅要求美國自身採取嚴格的「預設拒絕」出口許可制度，更試圖推動盟友採取一致的管制措施，適用於設備銷售與服務。而此法案中，最值得關注的便是其「後備機制」，這項機制是美國擴大全球晶片管制影響力的關鍵。

後備機制：外國直接產品規則的延伸應用

《MATCH 法案》中的「後備機制」是指，如果美國的盟友未能配合美國的管制政策，美國有權將其管轄權延伸至外國製造的設備。這種做法實際上是透過類似「外國直接產品規則」（Foreign Direct Product Rule）的條款來實現的。這意味著，即使相關設備是在外國生產，只要其中使用了美國的技術或元件，美國便可對其進行管制。透過這種方式，美國便能將其出口管制的影響力擴展至全球，而不僅僅局限於美國本土製造的產品。

艾司摩爾受《MATCH 法案》的潛在影響

以全球曝光機龍頭艾司摩爾為例，由於《MATCH 法案》將其 DUV 曝光機納入管制範圍，加上法案對「服務」的定義廣泛，涵蓋設備安裝、維護、遠端軟體更新及技術支援等，使得艾司摩爾面臨的風險不僅限於新設備銷售，還包括現有系統相關的服務收入。尤其在中國市場，艾司摩爾的業務佔比相當高，根據 2025 年的預估，中國市場約佔其總銷售額的 29%。

潛在營收衝擊與市場應對策略

美國銀行針對此情境進行分析，若全面禁止向中國出口 DUV 曝光機及相關服務，艾司摩爾的營收可能下滑約 14% 至 15%，息稅前盈餘則可能減少 16% 至 17%。然而，值得注意的是，來自中國以外市場的強勁需求，特別是 AI 與記憶體投資的持續推動，有助於部分抵銷此一衝擊，從而降低對淨息稅前盈餘的影響。儘管如此，出口管制政策的演變及西方盟友之間的政策協調，仍將是影響艾司摩爾長期成長的重要因素。

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